手机真空镀膜机晶向均匀性

2017-12-12  来自: 东莞市兴族(纳米科技)实业有限公司 浏览次数:347

  手机真空镀膜机晶向均匀性,蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

  1。晶格匹配度

  2。 基片温度

  3。蒸发速率

  溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

  溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

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