纳米镀膜机厚度均匀性分类

2017-12-04  来自: 东莞市兴族(纳米科技)实业有限公司 浏览次数:293

  纳米镀膜机厚度均匀性分类,真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

  主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。

  一、对于蒸发镀膜:

  一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

  厚度均匀性主要取决于:

  1。基片材料与靶材的晶格匹配程度

  2、基片表面温度

  3. 蒸发功率,速率

  4. 真空度

  5. 镀膜时间,厚度大小。

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