手机镀膜机真空镀膜技术的特点

2019-03-21  来自: 东莞市兴族(纳米科技)实业有限公司 浏览次数:344

  手机镀膜机真空镀膜技术的特点,真空镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外,其他几种方法均具有以下的共同特点:

  (1)各种镀膜技术都需要一个特定的真空环境,以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动,不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰,并消除大气中杂质的不良影响。

  (2)各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀各种金属膜和介质膜,而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

  (3)蒸发或溅射出来的制膜材料,在与待镀的工件生成薄膜的过程中,对其膜厚可进行比较***的测量和控制,从而保证膜厚的均匀性。

  (4)每种薄膜都可以通过微调阀***地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数,从而防止蒸镀材料的氧化,把氧的质量分数降低到程度,还可以充入惰性气体等,这对于湿式镀膜而言是无法实现的。

  (5)由于镀膜设备的不断改进,镀膜过程可以实现连续化,从而大大地提高产品的产量,而且在生产过程中对环境无污染。

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