手机真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别掩蔽

2018-05-31  来自: 东莞市兴族(纳米科技)实业有限公司 浏览次数:302

  手机真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别掩蔽

  手机真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别:

  蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

  蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

  溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。手机真空镀膜机设备

  溅射镀膜又分为很多种,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

  溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

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